苏姿丰、胡煜华、孟婉舟这些逻辑的上将，即便半步踏入轮值董事会，也没有资格第一时间参观，消息还封锁在最高统帅部一级。

“陆总。”

梁孟松、尹志尧等人喊了一声。

“走吧。”

陆飞换好装备，穿过走廊，墙壁上挂着华夏第一枚原子弹跟氢弹的当天报纸和照片。

头顶，悬挂着一条条横幅，都是激励士气的口号语，其中最显眼的莫过于——

“搞出光刻机，挺直腰杆子！”

“陆总，这就是我们自主研发的65nmArF干式光刻机，由逻辑、沪市微电子、长春光机、华为等多家单位、上千家供应商联合攻克，下一步就是预生产，在生产中不断改进完善，然后逐步实现量产化。”

孙红军兴奋至极，“预计一到两年，就能全部替代掉ASML和尼康的65nm光刻机。”

“还是自己的机器香啊！”

陆飞透过玻璃，看着工作人员有条不紊地操作，余光里注意到尹志尧等人的情绪很不对劲，“这么难得的好日子，你们怎么看上去不是很高兴啊，难道是光刻机还有什么质量上的问题，或者技术上的缺陷？”

“陆总，设备没有问题，技术也没有问题，就是……就是有一个坏消息……”

尹志尧一脸为难。

“什么坏消息？”

陆飞鼓励道：“没关系，说出来，不说出来，我们又怎么想办法解决呢？”

“陆总，ASML研发出了全球第一台EUV光刻机，已经送到三星的研究机构预生产。”

尹志尧无奈地叹了口气。

“你看你，又急。”

陆飞挑了挑眉，倍感意外，这么凑巧！

EUV光刻机的出现，相当于光刻机技术和设备正式发展到第五代，遥遥领先于他们。

第一代光刻机是以436nm的g－line汞灯光源为主，只适用于5μm以上制程。

之后出现了365nm的i－line汞灯光源的第二代光刻机，制程精度来到了350到500nm。

这两代都只能算是接近式光刻机，到了第三代扫描投影式光刻机，才实现了跨越式的突破，把最小工艺推进至150到250nm。

他们生产的65nmArF干式光刻机，算是第四代，也就是步进式投影式光刻机，制程工艺最高可以推进到65nm，想要更上一层——

就得用到浸入技术，也就是让镜头和硅片之间的空间浸泡于液体之中，在此基础上，就有了四代半的浸入步进式投影式光刻机。

本来，逻辑跟ASML这些国际一线的光刻机厂商，就只剩ArFi这么个半代差距。

但EUV光刻机一出现，又把这个差距拉到了至少1.5代，而且这个技术差距，不像制程工艺那么好追，是整个产业链的全面落后。

“不是我急，陆总，一旦EUV预生产成功的话，英特尔、三星、台积电也许不出三五年，就能得到EUV光刻机的生产线……”

尹志尧话里无不透着焦虑。

“尹教授，这台EUV，ASML、三星、英特尔、蔡司、台积电它们花了多久才研制出来？”陆飞透过面罩的玻璃，直直看去。

“从林本坚提出浸润式微影技术的理论，到现在，大概十三、十四年。”

梁孟松站出来回答。

“对嘛，这不就结了。”

陆飞拍了拍尹志尧的肩膀，“EUV集欧美日韩这么多全球最顶尖的半导体公司和人才，也要花13年的时间，何况是我们呢！”

“陆总说的没毛病！”

孙红军机敏地当捧哏。

“咱们研究起步晚，技术经验积累少，人才还不够不精，再加上特么的技术封锁，能在这么短的时间，攻克65nmArF干式光刻机，就已经很不正常了，再快就该拍科幻片了。”

陆飞笑道：“落后不可怕，可怕的是不追赶，你看我们现在，已经步入正轨了。”

“可不是嘛，快赶上小霓虹了！”

孙红军嘿然一笑。

就像霓虹在新能源上梭哈错了氢能，在光刻机路线上，不去梭哈湿刻法，而是全力押注干刻法，却失败了，白白耗费人力财力时间。

今后，逻辑的光刻机就可以跟尼康、佳能竞争低端光刻机市场，先干翻了小霓虹！

“所以啊，尹教授，我知道你很急，但你先别急，ArFi会有的，EUV也会有的！”

陆飞环顾四周，激励士气。

“陆总！”

尹志尧郑重地点了下头，他作为中微半导体的领军人，非常清楚逻辑是两条腿走路，既跟微电子为首的单位合作ArFi光刻机，又跟长春光机为主的科研所研究EUV光刻机。

而且满世界找帮手，比如徕卡。

“老孙，这次的奖励方案做出来了嘛？”

陆飞侧目望向孙红军。

“已经拟出个初步方案，就等您来定。”

孙红军应了一声。

“嗯，但凡这次参与光刻机项目的，哪怕是拧了个螺丝的，也要多发奖金！”

陆飞双手叉腰，“65nm有了，还怕没有ArFi？没有EUV？接下来我们就向32nm、28nm，甚至28nm以下的发起冲击，不管是10年、20年，还是多长时间，也要搞出来！把这颗工业明珠给我摘下来，当弹珠卖！”

“我就是怕耽误了先进制程工艺的进程，毕竟我们买不到最先进的DUV光刻机。”

尹志尧脸上露出一丝愧疚。

“梁博士，你的意思呢？”

陆飞把目光投向梁孟松。

“陆总放心，难度肯定是有的，但我可以保证，32nm，今年下半年就能风险性试产。”

梁孟松话锋一转，说出难题。

芯片代工制造的过程非常复杂，需要多方面的技术和设备支持，就像14nm是个关键的分界线，28nm也是个关键的分界线。

但设备还不是他最担心的，他最担心的是中芯被台积电打倒之后，下一个就轮到逻辑。

“这种情况我不是没有考虑。”

陆飞摆了摆手：“所以才把逻辑、澎拜的三分之一的产能放在台积电，就是让章忠谋顾虑，既想对付我们，又怕失去我们的订单。”

“可按我对章忠谋的了解，肯定不会善罢甘休。”梁孟松忧心道，“另外还有三星……”

陆飞笑道：“梁博士，三星现在的技术负责人还是蒋尚义，哪怕拿到了EUV光刻机，你觉得他有这个能力带领三星冲击制程吗？”

“没有！”

梁孟松想也不想，“没这个可能！”

“对嘛，就连40／45nm工艺，三星还是靠我们，很难说不会又在一个节点上卡住，难以突破。”陆飞严肃说，“这么一比，台积电才是我们最大的敌人！不管现在，还是将来！”

“台积电那边计划今年过渡到32nm，然后最早在明年转向28nm，我们的进度并不比台积电慢。”梁孟松自信满满。

“梁博士，假如，我是说假如，假如没有最先进的代工厂给逻辑造芯片，假如逻辑还造不出比较先进的光刻机，假如……”

陆飞把前世华为遭到的打压说了一遍。

“陆总，这种极限施压情况下，也不是没有办法，可以考虑多重曝光技术。”

梁孟松沉吟片刻，一一列出优缺点。

尤其是缺点，虽然经过多重曝光工艺，可以改变光刻机的制程极限，但良品率低。

而且每次曝光都需要校准，而对准误差会在多次曝光中积累，进而影响芯片的质量。

“除了损耗，就是成本，多次曝光需要更多的光刻胶、耗材和设备，这个投入可能……”

不等梁孟松往下说，孙红军突然打断。

陆飞和他相视一笑，光刻机的光刻胶等材料，早就纳入备胎计划。

“梁博士、尹教授，我们已经投资了博康化学等十几家公司，研发攻克光刻胶这些重要材料。”孙红军笑说，“而且找了德国的明斯特、亚琛工业等多家高校，跟我们国内的科研院校，合力打破霓虹这方面的优势。”

“啊？”

梁孟松和尹志尧面面相觑。